應(yīng)空間榮幸地宣布，我們將在5月20日推出群展"去碑營IV：密度符陣"。參展藝術(shù)家有：陳梓睿、戴丹丹、戈子馀、胡勤武、黃立言、雷徠、李易紋、李振威、劉聰、歐陽蘇龍、孫策、孫子垚、王楫、徐赫、楊欣嘉、應(yīng)歆珣、張佳星、張嗣、張懿、章犇。
　　"去碑營"作為應(yīng)空間的一個長期常設(shè)項目于去年底正式啟動，作為考察性的展覽項目，"去碑營"將全面呈現(xiàn)和梳理畫廊目光所及的、對繪畫最有見地的一群藝術(shù)家的最新實踐。目前項目已經(jīng)呈現(xiàn)了《北平之春》、《自我作古》、《地域畫家》三次。項目有隱和顯的兩條線索。隱的線索指每次展覽都有一個關(guān)鍵詞作為組織集結(jié)藝術(shù)家的原則，例如：第一次展覽的"手感"、第二次的"素描"、第三次的"寫生"，即將開幕展覽的"形式"、還有計劃中的"敘事"。平行于被展覽的作品，我們也有意在展覽中放入另一條線索，即借助藝術(shù)史、文本、關(guān)聯(lián)作品、空間等各種復(fù)雜的關(guān)系構(gòu)建、遭遇、碰撞，將作品帶入特定主題空間，對繪畫作為行業(yè)、職業(yè)、消費品、創(chuàng)造物的各個環(huán)節(jié)進行追問。例如，第一次"畫家的政治性"、第二次"作品中的自我"，第三次的"流轉(zhuǎn)遷徙中的地域性和地方主義"。我們在展覽中通過這兩條線索，對繪畫行為的語言本體和創(chuàng)作邏輯進行展示和研究。
　　"去碑營IV：密度符陣"除聚焦"形式"這一繪畫要素之外，我們利用過往的展覽剩余物來結(jié)構(gòu)空間，像一個巨人對上一次展覽搭建進行了即興的抹除和留痕，建立了一個由不同性質(zhì)的物質(zhì)和密度混響的繪畫道場。展覽將于5月20日開幕，并將持續(xù)至6月30日。